SEMICONDUCTOR & DISPLAY
반도체 & 디스플레이Semiconductor & Display
반도체·디스플레이 공정은 초정밀 클린룸 환경에서 이루어지며, 미세한 입자 발생이나 화학물질 누출이 수율에 직접적인 영향을 미칩니다. 씰스타는 우수한 화학 내성과 저파티클 특성을 갖춘 퍼플러오링, 스프링에너자이즈씰, PEEK 소재 씰 등으로 정밀 공정을 지원합니다.Semiconductor and display processes run in ultra-precise cleanrooms, where particle generation or chemical leakage directly affects yield. Sealstar supports these processes with perfluoro O-rings, spring-energized seals and PEEK seals offering excellent chemical resistance and low-particle characteristics.
주요 적용 부위Key Applications
웨이퍼 이송·척(Chuck) 장비Wafer transfer & chuck equipment식각(Etch)·증착(CVD/PVD) 챔버Etch / deposition (CVD·PVD) chambers가스 배관 밸브Gas line valves초순수(UPW) 배관Ultra-pure water (UPW) lines진공 펌프(Vacuum Pump)Vacuum pumps
요구 성능Required Performance
1
초저파티클Ultra-Low Particle
클린룸 오염을 최소화하는 저발진(Low-Outgassing) 소재.Low-outgassing materials that minimize cleanroom contamination.
2
우수한 화학 내성Chemical Resistance
강산, 강염기, 플라즈마 환경에서도 변형 없는 내구성.Durability without deformation under strong acids, bases and plasma.
3
정밀 치수 관리Precise Tolerances
수 마이크론 단위의 정밀 공차로 미세 누설을 방지.Micron-level tolerances that prevent micro-leakage.
4
고온·고진공 대응High-Temp / High-Vacuum
공정 온도·압력 변화에도 안정적인 밀봉 성능 유지.Stable sealing through process temperature and pressure changes.
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자주 묻는 질문FAQ
반도체 챔버용 씰에 왜 FFKM을 많이 쓰나요?Why is FFKM commonly used for semiconductor chamber seals?
FFKM(퍼플러오링)은 강산·강염기·플라즈마에 대한 내화학성이 뛰어나고 저발진(low-outgassing) 특성이 있어, 클린룸 오염을 최소화하면서 식각·증착 챔버의 극한 화학환경에 견딜 수 있습니다.Perfluoro O-rings (FFKM) combine strong resistance to acids, bases and plasma with low outgassing, so they withstand the extreme chemistry of etch/deposition chambers while minimizing cleanroom contamination.
초순수(UPW) 배관에도 특수 씰이 필요한가요?Do ultra-pure water (UPW) lines need a special seal too?
네, 초순수는 미세 오염에도 민감하므로 저용출·초저파티클 소재의 씰이 필요합니다. 씰스타는 PTFE·PEEK 계열로 대응합니다.Yes — UPW is sensitive to even trace contamination, so low-extractable, ultra-low-particle materials are required. Sealstar addresses this with PTFE- and PEEK-family materials.
웨이퍼 이송 장비의 씰은 어떤 조건을 우선 고려하나요?What's the top priority for seals in wafer-transfer equipment?
고진공 유지와 초저파티클 발생이 최우선이며, 반복 구동에도 안정적인 저마찰 특성이 필요합니다.Maintaining high vacuum and generating minimal particles come first, along with stable low friction under repeated cycling.
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